ASML光刻机专家交流纪要–20230319

ASML光刻机专家交流 Q1：光刻机目前的限制情况？A：2000i及以上都进行限制。 Q2：交期情况？ A：2-3年左右，还仅是针对国内大型厂商。 Q3：存量光刻机目前限制情况？长存已经建好产线的光刻机如何限制？A：公司还是荷兰公司，不是美式公司，倾向于支持国内公司已有设备。只是美系相关的设备和零部件，我们不做支持，只能依赖国内公司自主维护。 Q4：国内光刻机进展情况？ A：上海微电子28nm光刻机已经给客户验收，但是良率、成果还未验证，已经是0-1的突破。制程应该在45nm左右。45nm应该对应860-1400i机型，还没到浸润式的机型； 华为方面，他是做全产业链覆盖，光刻机已经搭载出DEMO机，目前主要在聚焦软件/算法方面。Q5：去年底下的2000i光刻机订单能否到货？A：限令是3月份下的，今年基本不能给货了。 Q6：零部件情况？A：国产其他设备环节零部件已经有突破了，例如刻蚀、薄膜沉积等。 光刻机方面，镜片ASML用的蔡司的，国内透镜用的茂莱光学（供应上海微电子），福晶科技做激光，华卓荆轲做工作台，长春光机所做光栅。 Q7：双工作台国内目前情况？A：只有华卓荆轲在做。 华为是自主研发，全产业链布局，不在讨论范围。 Q8：光刻机零部件价格排序？壁垒和采购难易程度？A：光栅主要用在双工件台运动，以及光照对齐工件台，对精度要求很高，国产器件还需要提升精度。 透镜的难度不是特别高，茂莱的技术还是比价好，外企也有认证。 中控系统、温控系统主要是集成。 传输系统（晶圆和光照）主要是机械臂。占比情况，机械类占比15%；光学类（透镜+光栅）30%左右，其中透镜使用量更多一点，光栅方面一个工作台对 应3个光栅（ASML）。 Q9：验证周期大概多久？ A：从ASML经验来看，当时做浸润式给台积电验证，晶圆良率要做到90%，花费了3-5年时间。 Q10：长存128层用的什么型号？后面做200层以上，需要用什么型号？长鑫19nm用的型号？后面做17nm需要什么型号？ A：长存256层以上，需要1980i以上型号。长存最开始从32层开始做起，如果只是做128层，1600i型号是可以做的。一般来讲，用1980i做只需要曝光一次，用低端型号需要更多材料，成本更高。 长鑫2年以前是没有1980i型号，它主要做DRAM。 中芯上海主流28nm及以下型号比较杂，2050i有两台，1980i型号有很多；北京和上海主要是1600i型号，做成熟制程。 Q11：国内长存、长鑫和中芯给ASML下单情况？A：影响还是存在，今年还是没有收到影响，未来暂时不确定。