专注ALD技术，光伏和半导体双向高成长

微导纳米（688147） 公司研究/公司深度 专注ALD技术，光伏和半导体双向高成长 2023-1-20 报告日期： 投资评级：增持（首次） 主要观点： ALD技术领军企业，聚焦光伏与半导体 公司专注于ALD技术，引领国内ALD技术的发展应用。公司为国内首 收盘价（元）31.20 近12个月最高/最低（元）32.50/25.08 总股本（百万股）454.46 流通股本（百万股）37.59 流通股比例（%）8.27% 总市值（亿元）141.79 流通市值（亿元）11.73 公司价格与沪深300指数走势比较 微导纳米（前复权）沪深300 % 2022-122023-012023-012023-01 20% 10% 0 -10% -20% 分析师：张帆 执业证书号：S0010522070003邮箱：zhangfan@hazq.com 分析师：徒月婷 执业证书号：S0010522110003邮箱：zhangfan@hazq.com 家将ALD技术规模化应用于光伏领域，也是国内首家成功将量产型High-k原子层沉积设备应用于28nm节点集成电路制造前道生产线的设备公司，并不断在泛半导体领域拓展产品应用外延。 2021年度和2022年前三季度公司营收分别为4.28亿元、3.85亿元，归 母净利润分别为4,611.37万元、-325.47万元，截至2022年9月末，公 司已取得在手订单19.75亿元。公司前期研发投入高，新产品开拓初期的毛利率有一定影响，规模效应有望带来利润加速回升。 光伏：立足ALD，新型电池技术全面布局 PERC：公司量产设备镀膜速率突破10,000片/小时，打破制约ALD 技术应用于光伏领域的产能限制。2018年、2019年公司PERC电池背钝化设备装机容量市占率分别为41.16%、48.41%。 TOPCon：（1）ALD设备在TOPCon电池正面氧化铝工艺中，可沉积超薄的、高深宽比的膜层，更适应正面镀钝化膜的复杂形貌，首先取得较高市占率。（2）公司开发的PEALD二合一平台，集成了PEALD和PECVD两种工艺，分别用于制备隧穿层和多晶硅层，有望受益于TOPCon路线持续扩产。 IBC：由于平台化技术特征，IBC可以和HJT、TOPCon技术结合，电池制备工艺更为多变。其中，ALD设备在钝化层的制备中具有重要地位，且需求量往往更高。 HJT：公司PECVD技术可以应用于本征非晶硅层沉积，ALD设备也储备用于TCO层沉积。 钙钛矿：ALD具有衬底温度较低、可精确控制膜厚、大面积生长、薄膜均匀性好、三维保形性好等特点，在TCO等功能层、缓冲层和封装中都具备广泛的应用条件。公司根据下游客户需求进行相应储备。 半导体：ALD技术中的国产替代先行者 随着我国半导体设备市场需求量增长及国产化率提升，国产ALD设备市场空间不打断开，带来领先ALD设备公司机会。我们预计2022/2023/2024我国国产ALD设备规模分别为5.21/6.26/9.59亿元， yoy+37.42%/20.15%/53.38%。 公司ALD技术在泛半导体的各细分领域深度拓展。在逻辑芯片领域，公司为国产首家突破28nm制程High-k材料沉积技术；在存储芯片领域，公司ALD技术可以用于3DNAND、铁电存储（FeRAM）等先进存储技术 敬请参阅末页重要声明及评级说明证券研究报告 领域；在新型显示领域，公司的ALD设备布局OLED/miniLED等领域，不断拓宽应用外延。 盈利预测、估值及投资评级 我们预测公司2022-2024年营业收入分别为6.02/16.68/22.15亿元，归母净利润分别为0.31/1.26/2.59亿元，2021-2024年归母净利润CAGR为78%，以当前总股本4.54亿股计算的摊薄EPS为0.07/0.28/0.57元。 公司当前股价对2022-2024年预测EPS的PE倍数分别为463/113/55倍，我们选取光伏及半导体领域镀膜设备领军公司作为可比公司，考虑到公司在ALD领域具有领先优势，且在光伏及半导体领域拓展具备较大业绩弹性，首次覆盖给予“增持”评级。 重要财务指标 单位:百万元 主要财务指标 2021 2022E 2023E 2024E 营业收入 428 602 1,668 2,215 收入同比(%) 36.9% 40.6% 177.3% 32.8% 归属母公司净利润 46 31 126 259 净利润同比(%) -19.1% -33.6% 310.4% 106.6% 毛利率(%) 45.8% 39.8% 38.5% 38.7% ROE(%) 5.2% 3.2% 11.6% 19.5% 每股收益(元) 0.10 0.07 0.28 0.57 P/E 307.48 463.33 112.89 54.65 P/B 16.05 14.78 13.07 10.64 EV/EBITDA 10.65 14.33 3.92 1.93 资料来源：wind，华安证券研究所 风险提示 1）光伏及半导体行业后续扩产不及预期的风险。2）技术迭代带来的创新风险。3）国内市场竞争加剧的风险。4）核心技术人员流失或不足的风险。5）测算市场空间的误差风险。6）研究依据的信息更新不及时，未能充分反映公司最新状况的风险。 正文目录 1ALD技术领军企业，聚焦光伏与半导体6 1.1专注ALD技术，拓展应用领域6 1.2光伏与泛半导体领域已取得广泛应用8 1.3营收高速增长，规模效应有望带来利润加速提升11 2光伏：立足ALD，新型电池技术全面布局14 2.1光伏装机量增长，设备空间广阔14 2.2大幅提效，首先将ALD技术应用于PERC电池生产15 2.3TOPCON持续放量，立足ALD发展正背面镀膜16 2.4ALD需求量增长，受益IBC路线扩产19 2.5HJT持续降本增效，公司进行技术储备21 2.6布局钙钛矿电池，不断加强技术储备23 3半导体：ALD技术中的国产替代先行者25 3.1需求与国产替代共振，国产ALD设备市场快速增长25 3.2逻辑芯片：国产首家突破28NM制程HIGH-K材料沉积技术27 3.3存储芯片：精细化镀膜适应先进存储技术需求28 3.4新型显示：MINILED/OLED等广泛布局29 4投资建议32 4.1基本假设与营业收入预测32 4.2估值和投资建议32 风险提示34 图表目录 图表1公司发展历程6 图表2微导纳米股权结构图（截至2022年12月22日）6 图表3公司主要管理人员简介7 图表4原子层沉积技术原理图8 图表5PVD/CVD与ALD的工艺对比8 图表6公司光伏领域主要设备9 图表7公司半导体领域主要设备10 图表8公司产品在其他领域的应用10 图表9公司主营业务收入产品类别构成情况（%）11 图表10光伏领域设备销售收入占比（%）11 图表11公司专用设备产品销售具体情况11 图表122019-2022前三季度的营业收入及同比增速12 图表132019-2022前三季度的归母净利润及同比增速12 图表142019-2022前三季度毛利率与净利率情况12 图表152019-2022前三季度期间费用率情况12 图表16公司分产品毛利率水平（%）13 图表17全球光伏新增装机及预测（GW）14 图表18我国光伏新增装机及预测（GW）14 图表19光伏产业链14 图表20行业内其他企业对比15 图表21铝背场电池与PERC电池结构区别15 图表22近年光伏PERC产能（GW）15 图表23PERC电池工艺流程及对应设备16 图表24PERC电池生产中相关企业常用的AL2O3镀膜设备产能指标16 图表25PERC和TOPCON电池结构对比图17 图表26晶科实验室N型单晶硅单结电池转换效率17 图表27部分上市公司TOPCON扩产情况17 图表28TOPCON电池工艺流程及对应设备18 图表29薄膜沉积设备在TOPCON投资中占比提升18 图表30公司TOPCON镀膜设备应用18 图表31TOPCON背面膜其他制备方法存在的问题19 图表32IBC电池结构相较于其他路线更为特殊19 图表33IBC电池高低温环境下均有优秀性能表现19 图表34头部电池片厂商BC电池量产转化效率及投产情况20 图表35一种新型IBC太阳能电池的简易制备流程（通威太阳能）20 图表36HJT电池为对称双面结构21 图表37头部电池片企业HJT转换效率近年已达25%以上21 图表38主要厂商HJT电池远期产能规划21 图表39异质结电池量产主要工序22 图表40公司HJT相关的研发项目22 图表41IBC电池结构相较于其他路线更为特殊23 图表42IBC电池高低温环境下均有优秀性能表现23 图表43部分公司进行钙钛矿布局23 图表44协鑫光电公布的钙钛矿工艺流程图24 图表45ALD缓冲层在钙钛矿电池结构中的位置24 图表46钙钛矿结构示意图（ALD-AL2O3封装层）24 图表47全球及中国大陆半导体设备市场规模（亿美元）25 图表482021年中国半导体设备市场规模占比情况25 图表49全球半导体薄膜沉积设备市场规模（亿美元）25 图表502019年半导体薄膜沉积设备占比26 图表512020年半导体薄膜沉积设备占比26 图表522019年全球ALD市场竞争格局26 图表53我国国产ALD设备市场空间测算27 图表54英特尔首先在45NM制程中提出HIGH-K技术27 图表55公司逻辑芯片领域应用产品和研发项目情况（截至2022年11月2日）28 图表56全球及中国存储芯片市场规模（亿美元）28 图表57全球2021年半导体存储器市场结构28 图表582DNAND与3DNAND结构简图29 图表59铁电存储器原理29 图表60公司存储芯片领域应用产品和研发项目情况（截至2022年11月2日）29 图表61中国LED芯片产值（亿元）30 图表62中国LED芯片产能分布30 图表63中国MINILED市场规模（亿元）30 图表64中国MINILED市场份额30 图表65公司新型显示方向产业化及研发情况31 图表66公司营业收入预测32 图表67可比公司估值33 图表1公司发展历程 1ALD技术领军企业，聚焦光伏与半导体 1.1专注ALD技术，拓展应用领域 微导纳米成立于2015年12月，2022年12月在科创板上市。公司主要从事先进微、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产和销售，向下游客户提供先进薄膜沉积设备与相关改造服务及备品备件。 公司以ALD（原子层沉积）技术为核心，主要应用于光伏和泛半导体领域。公司成立后即开始原型机的研发，一代量产机型KF4000于2017年中开始试量产，全球首创将ALD技术规模化应用于光伏领域，PECVD设备、PEALD二合一平台设备自2021年开始实现销售。公司于2018年启动半导体及柔性电子领域ALD的设备研发，在半导体领域，公司是国内首家成功将量产型High-k原子层沉积设备应用于28nm节点集成电路制造前道生产线的国产设备公司，正式进军逻辑芯片、先进存储、3D-IC等镀膜制造领域。 资料来源：公司招股说明书，华安证券研究所整理 股权结构稳定，实控人为王燕清家族。截至2022年12月，万海盈投资直接持有公司23,258.1624万股股份，占公司总股本的比例为51.18%，为公司控股股东。王燕清、倪亚兰、王磊组成的家族通过万海盈投资、聚海盈管理、德厚盈投资间接控制公司60.60%的股份，同时王燕清之子王磊担任公司董事长、王燕清之妻倪亚兰担任公司董事，王燕清家族为公司的实际控制人。截至2022年6月30日，公司不存在控股子公司及分 公司，参股公司1家为芯链融创。 图表2微导纳米股权结构图（截至2022年12月22日） 资料来源：公司上市公告书，华安证券研究所整理 管理层从业经验丰富，技术团队对行业理解非常深刻。王燕清家族作为公司实际控制人，于2002年创立无锡先导智能装备股份有限公司。先