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2021年报点评:业绩持续高增长,平台化布局加速推进

2022-03-31葛星甫、耿琛华创证券别***
2021年报点评:业绩持续高增长,平台化布局加速推进

事项: 2022年3月30日,公司发布2021年年度报告: 公司2021年实现营业收入31.08亿元,同比+36.72%;实现毛利率43.36%,同比+5.69pct;实现归母净利润10.11亿元,同比+105.49%;实现扣非后归母净利润3.24亿元,同比+1291.10%。 评论: 行业持续高景气叠加国产替代加速,公司业绩持续高增长。受益于半导体设备需求旺盛及公司产品竞争优势,2021年公司营业收入同比+36.72%至31.08亿元,其中刻蚀设备收入20.04亿元,同比增长约55.44%。公司单季度业绩保持高增长态势,2021Q4实现营业收入10.35亿元,同比+29.91%,环比+41.03%; 实现毛利率44.71%,同比+1.69pct,环比+1.40pct;实现扣非后归母净利润1.59亿元,同比+131.82%,环比+54.36%。公司2021年新签订单41.3亿元,同比增加约90.5%,较高的在手订单将支撑公司全年业绩保持高增长。 行业持续高景气叠加国产替代加速,国产半导体设备厂商份额持续提升。成熟制程供不应求带动国内晶圆厂加速扩产,中美贸易摩擦背景下设备国产化趋势明显。2021Q3中国大陆半导体设备销售额同比增长29.4%至72.7亿美元,SEMI预计2021年中国大陆将成为全球第一大设备支出地区。以中微公司为代表的国内半导体设备厂商加大产品开拓力度,下游晶圆厂积极配合设备验证导入,半导体设备国产化加速。随着下游客户的持续扩产及先进制程设备的研发及验证,国产半导体设备厂商份额有望持续提升。 公司刻蚀设备持续受益于行业高景气,MOCVD业务有望迎来拐点。刻蚀设备方面,公司CCP设备竞争优势明显,2020年在国内逻辑器件的两家头部厂商中市场份额达到39%,且已进入台积电、联电、格罗方德等海外晶圆厂中; ICP设备快速突破,2021年共生产付运ICP设备134腔,产量同比增长235%,产品已在超过15家客户的生产线上进行100多个ICP刻蚀工艺的验证,未来ICP设备有望成为公司刻蚀业务新的增长点。MOCVD设备方面,Mini LED技术驱动LED芯片厂商加大投资力度,公司2021年6月发布用于Mini LED用MOCVD设备,截至2021年12月订单已超过100腔。随着下游客户持续加码Mini LED技术,公司凭借技术优势有望显著受益于行业需求提升。 盈利预测、估值及投资评级。全球半导体设备市场持续高景气,公司显著受益于刻蚀设备需求增长;同时,Mini LED技术趋于成熟,下游LED芯片厂商积极扩产,公司MOCVD设备业务有望迎来业绩拐点。我们维持公司2022-2023年营业收入预测为44.0/60.0亿元,新增2024年营业收入预测为81.0亿元,结合公司历史估值区间及行业平均估值水平,给予2022年23倍PS,对应目标价为164.16元,维持“强推”评级。 风险提示:中美贸易摩擦加剧;下游客户扩产放缓;上游零部件供应短缺。 主要财务指标