长鑫科技看着人们对CXMT的4F²感到震惊,并声称CXMT已经赶上西方的存储技术,真是令人啼笑皆非。
长鑫科技的DUV光刻技术已经达到了极限。它目前的目标是在相对宽松的13至14纳米制程节点上,从6F²光刻技术过渡到4F²光刻技术,从而延长DUV光刻技术的寿命。它并非直接跳到4F²光刻技术以超越使用EUV光刻技术的西方存储器制造商。人们把因果关系搞反了。
三星和SK海力士并非因为愚蠢才迟迟不推出4F²技术。如果他们现在想量产4F²,完全可以做到。他们之所以不这么做,唯一的原因是良率不足。
我真的搞不懂CXMT引发的这波抛售潮是怎么回事。#文字观点