N型光伏电池湿法装备关键技术及应用–20230522
N型光伏电池湿法装备关键技术及应用 捷佳_创研发总监任金枝 1.公司及技术台简介 公司市场定Oÿ捷佳_创是国际领Y的太能电l生产设备综合解决方案提供商2捷佳_创已~全球200多家Z伏电l生产企业，à2000条电l生产线提供设备和服á，w中要ý艺设备的^场占有率均超过50%，r~全球领Y的晶体硅太能电l设备供Þ商2 公司概况ÿ截k23Q1，公司产品销往总共15个国家和地区，员ý的总人数已经超过了6000]，_利数量超过500项ÿw中包括l在申请_利185项，软件著作权53项Ā2公司主营业务ÿ清洗v绒1扩散1刻蚀1PECVD1印w电极及自动化配套设备2 公司发展历程ÿ捷佳_创于2007r立Ā2017实Ā了HJTv绒设备量产，rß推出碱抛Zÿ代酸抛Z设备量 产，带动了行业技术的革新，确立了在PERC电l行业的龙头地OĀ2019，公司r立半导体Ï业部，进军_局w他高端泛半导体设备行业Ā2021，HJT中试线建r，推出了HJT核心设备RPD和板式PECVD，并在HJT实Ā管式PE的创新性Þ用Ā2022，实Ā了半导体槽式湿法设备的量产2 集团技术台简介： ÿ1Ā真空装备技术Āÿ深圳基地Āÿ要_注于管式真空设备ÿ如管式PECVD1管式LPCVD1管式PEALD 等Ā和板式真空设备ÿ如板式PECVD1板式Cat-CVD1板式RPDĀ的研发和生产 ÿ2Ā湿v程装备技术Āÿ常州基地Āÿ要_注于Z伏湿法装备ÿ如化学v绒设备1化学抛Z设备1化学刻蚀设备Ā1半导体槽式设备ÿ如Cassettetypebench1Cassette-lessbenchĀ以及半导体单晶圆设备ÿ如封装及前段的单ýx设备1化合物PMEMS的单ýx设备Ā的研发和生产 ÿ3Ā自动化智能化设备技术Āÿ常州基地Āÿ要业á包含丝网印w1激Z设备以及自动化智能化设备2 公司湿制程装备的开发战略，主要有四个层面的发展目标： ÿ1Ā更强的表面结构化能力Āÿ2Ā更P的单片r本Āÿ3Ā更强的清洗能力Āÿ4Ā更~ÿ保的生产流程2湿法装备迭代过程： 2015，s们推出了400Pcs大产能湿法设备22017，s们rß研发并推出了全球首Ā无机碱ÿ代`统酸刻蚀设备，实Ā了Z伏产业的<零氮排放=，~ÿ境保护做出了 重要贡献22019，实Ā国内首ĀHJT清洗v绒ý艺和设备的研发22022，推出了x备600Pcs大产能槽式设备和12道链式刻蚀清洗设备22023公司Ï然在致力于研发更洁净生产ý艺和以及更强的表面结构化能力2 链式碱抛光装备发展时间线： ÿ1Ā探索阶段ÿ第一代链式碱式抛Z，效率增益0.15%，但废水m染Ï未解决，产能规模有限2ÿ2Ā初Ér效ÿ第Ð代槽式碱抛Z，产能提升50%，实Ā零氮排放2 ÿ3Ā技术r熟ÿ第O代槽式碱抛Z，设备结构以及ý艺方案迅在全行业推广2 ÿ4Ā优化升级ÿ第四代槽式碱抛Z，电l产品拥有更高转换效率，产能规模进一n扩大22019无机碱抛光ÿKOHĀ相比酸抛光ÿHNO3体系Ā效率提升0.15%，抛光单工序成本降P70%，产能提升150%，实Ā零氮排放。 高产能设备技术推动光伏产业P成本化：ÿ1Ā一Ā机产能由2010的76MW提升到2023的976MW,要系设备产能的提升ÿ由原来的3600Pcs/h提升到1200Pcs/hĀ1硅片尺û的扩大ÿ125mm提升到210mmĀ以及转换效率的提升ÿ18%提升到24.5%Ā ÿ2Ā未来突破研发方向ÿ一致性，片内1片间1批次的一致性会带来挑战Ā载具，花篮会Ø大，w稳定性和寿命方面需要接×考验Ā洁净度，效率越高ü洁净度要求更高，大尺û设备Q高洁净度的保持问题需要解决Ā良率问题，如何¶k黏片带来的外Ê问题以及绒面问题，以及破片率问题亟待解决2 2.湿制程关键技术介绍 清洗O置ÿ在LPCVDý序之前，需要ü表面进行解剖清洗，而在LPCVD之^，则需要清洗绕镀层和绕过层的P表面2 绒面清洗技术的发展ÿ在2010之前，多晶硅O重刻蚀是 要的绒面清洗技术，使绒面呈Ā出毛绒般的结构2在2012到2021期间，Ā大的发展是淘汰了多晶硅刻蚀技术2\时，绒面的质检方面，包括材料1添à剂和设备v 商都进行了许多升级和更新，导致绒面技术更新换代频繁2到了2021þ右，绒面技术已相当r熟，包括绒面大小1均匀性和密度等方面2 在2021之^，针üTopcon或异质结电l，s们Þ该更注重微Ê层面的优化，尤w是在v绒和抛Zÿ节2 重点研发方向： ÿ1Ā表面清洗以及结构化的的处理ÿ涉及微Ê绒面中的金_塔结构的塔尖以及塔ß更微Ê层面的一个处理，以及搭配更高效电l的时候，是否需要处理以及需要处理到什N程度都需要s们做更多的研究ý作 ÿ2ĀRCA清洗技术的ß用ÿRCA清洗技术广泛ß用于半导体的生产ÿ节中，Ā在Z伏中的RCA清洗技术并O是严格意OP的RCA清洗，所以当把适用于Z伏ÿ节的RCA清洗引入^在面ü更微Ê的清洗目标时如何做到高效清洗需要着重去研发突破2 ÿ3Ā微Ê层面的研究ý作ÿ4Ā清洗ý作ÿ5Ā材料技术ÿ6Ā~燥技术ÿ7Ā内部ß动结构的设计ÿ8Ā智能v 设备的研发 3.湿制程设备未来的挑战 智能制造仍有差距：目前的智能v 技术基本还是依赖于社会厂家的自的研发，因m自研发的设备会x有一些O\的特点，整体Ð设备的角度来看，ß能性以及智能性方面，公司认~ÿ能P私域ß营的差距还是比较大2 ÿ产化进度仍待推进：Ð整个Z伏产业^场来说，ü国产的零部件1国产的厂商以及国产的材料都有很强的包容性，然而目前Ï然`在大量的设备需要依赖进口品牌，所以未来尤w是在材料和零部件ÿ节，需要注意P国内的公司开展合作2 清洗ÿ节仍需探索：更高效的电l未来需要用什N来清洗以及如何清洗Ï然有很大的改善r长空间2 4.会议PPTĀ片介绍 公司概况 公司发展时间线 集团三大技术台 市场主流太阳能电池结构 湿制程技术介绍 公司湿制程技术开发战略 公司湿法装备迭代情况 公司无机碱抛光设备发展线 酸抛光与碱抛光设备ü比公司设备产能效率提升情况 公司设备未来发展方向 公司制绒清洗设备发展时间线 公司槽式清洗设备产能发展情况去绕镀刻蚀清洗示意Ā 表面清洗及结构化技术微观示意Ā 表面清洗及结构化技术流程 清洗蚀刻装备应用场景湿制程设备未来挑战
