当前规模化应用集中于射频前端、电源管理芯片、MCU等成熟制程产品,中国台湾地区已实现较大体量与营收。HPC领域预计2028年后落地,台积电CoPoS1.0计划2028下半年量产,三星2017年已应用于智能手表APU,英特尔商业化时间暂定2028年或更晚。
国内企业优先发展成熟载板业务,逐步攻坚GlassCore、GlassInterposer,TGV工艺是核心但良率瓶颈显著。TGV流程包括激光改性(每秒5000-10000孔)和湿法刻蚀,设备供应商包括ASMPT、盛美上海、深圳非上市企业(激光)等。
玻璃基板是长期方向,未来5-10年ABF市场份额逐步萎缩,主要竞争对手为东亚台系、日系企业。AI玻璃基板加工大概率不转移国内,越南仅显示面板产线,海外建厂讨论尚早。
当前暂无明确扩产计划,需中试线稼动率>60%才制定正式方案。500mm×500mm玻璃原片成本约700元/片,50×50mm基板理论产出40余片,良率是扩产关键(≥60%且持续改善)。
尚未规模化投片,2026上半年试投片良率偏低,持续大规模扩产需良率≥60%、稼动率≥70%。高溢价的成因是交付保障、长期可靠性要求,而非材料成本。