光刻机产业深度系列专题报告（一）：“进制程关键步骤，半导体设备明珠，光刻机市场迎国产化机遇

核心观点

光刻是先进制程的关键步骤，决定了芯片的制程与性能。光刻分辨率由光源波长、数值孔径、光刻工艺因子决定，通过缩短光源波长、增大数值孔径、减小光刻工艺因子可以提高光刻分辨率，进而提升芯片的性能。28nm是工艺节点的重要分水岭，在性价比方面与下一代工艺有着较大差异。多重曝光工艺可跨越光刻机极限分辨率，实现更小线宽。EUV光刻机在工艺和成本上更具优势，是光刻机行业市场规模的主要增长来源。

关键数据

• 2023年光刻机市场规模257亿美元，占晶圆生产设备总市场的24%。
• 2011年光刻机市场规模257亿美元，预计2022-2028年全球光刻机市场规模CAGR有望达到6%。
• 2019-2023年全球光刻机出货量CAGR达16.75%，其中ASML出货量CAGR达18.33%。
• 2019-2023年全球光刻机营收CAGR达17.5%。
• 2023年EUV光刻机平均售价（ASP）由2018年的1.0亿欧元提升至2023年的1.7亿欧元。

竞争格局

光刻机行业属于寡头垄断格局，ASML、Nikon、Canon三大光刻机供应商占据了99%以上市场份额，ASML为行业龙头。ASML在高端光刻机（EUV、ArFi、ArF）市场占据绝对优势，市占率分别为100%/92%/80%。Nikon和Canon则凭借价格优势占据中低端光刻机（KrF、i-line）市场。

国产光刻机

中国除港澳台地区光刻机进口规模大，替代空间广。陆资晶圆代工厂产能持续扩张带动光刻机需求提升。美日荷对华先进制程封锁，光刻机国产化势在必行。上海微电子作为目前国内唯一前道光刻机整机制造商，其自主研发的600系列前道光刻机可批量生产90nm工艺的芯片，500系列后道制造光刻机占据80%以上国内市场。国产供应链方面，科益虹源作为我国唯一、全球第三家从事光刻准分子激光技术全链条研发的公司，193nmArF准分子激光器完成出货。国望光学研发面向28nm节点的ArFi光刻曝光光学系统，国科精密团队成功研制国内首套NA0.75ArF曝光光学系统。华卓精科与清华大学团队持续攻坚浸没式光刻机用双工件台DWSi。

产业链相关公司

茂莱光学、福晶科技、福光股份、腾景科技、波长光电、永新光学、蓝特光学、炬光科技、赛微电子等。

风险提示

国外顶尖制程工艺再度突破的风险、国产光刻机研发及落地不及预期的风险、下游需求疲软，晶圆代工厂扩产不及预期、光刻机出口管制进一步加剧的风险。