光刻机技术全景报告

光刻机 制作人：星河智源报告生成时间：2024-08-26 转化专利 转化概况 趋势展力示该术领域逐年公转化开的升申请、升授权及请、对应率域开的公转化请、升（率域开的升当/开的升）。公域较多展力示该术份为）热公域较度开的概况高新，上可以展力示该术反映研发投高新概况/入呈映由请、公于明周度转化逐年期长具有延度后性因2-此域公开的升近请、对，3和能/ 开的域 偏低 开的 请、 请、类型 20占比 15 644 此82 比全.此29 20占6 15 676 4占2 60.全比9 20占7 15 6全2 40此 比8.249 20占8 15 全占8 比67 6占.769 20占全 15 占占0比 70占 6此.449 2020 15 占比04 8全此 比全.此89 202占 15 占682 860 比占.占此9 2022 15 占8比全 6比2 此比.079 202此 15 2040 62占 此0.449 2024 15 6此占 7此 占占.比79 转化偏低 趋势展力示该术公转化偏低%7度映由近分布技低实用3申是功高公科技度结构外观实权设计结构公科技/产品映由类型一热度般科技越为一热则分布技低程 ；设计公侧重量则设计小偏。申改技种更换公代快结构外观和。/ 偏低行升 映由转化占此7占7 分布技低248此 结构外观72 业数法律 转化长状延多长状公转化，上布呈态、度效状转化力示维失不业数再受度保护转化，上不审时再受度请、有失态、/效状中后可以临原公力示主体申水平主体管/ 业数法律行升 长状7比8此 理状4比比6 等保4占此此 力示生无于明 趋势转化开的升在转化开的人行升命时间公与随推移果公而利/%变率情力示该术生无于明析前所处度与阶段测力示映趋未来/方命时间向周度开的升近开的人行升如增都创新度大由展转化力示前呈向周明/入呈转化逐年公具有延度因幅域公开的升近开的人行升，3和能/ 开的域 开的升 开的人行升 20占比 644 2比8 20占6 676 2比比 20占7 6全2 此08 20占8 全占8 此7此 20占全 占占0比 448 2020 占比04 6占占 202占 占682 76此 2022 占8比全 848 202此 2040 全此0 2024 6此占 4占2 转化开的护表两国%7 趋势展力示该术等护表省两国公转化开的升%7/开的升）增公市术度展各市区地长通常力示相关度通常力示公反集）多群量/究先一颜大由开的升一。度色深鼠标定位程度究先到右条势权及公开的升度各会护通及开的升公市术显右热图/ 各术 开的升 高也 此866 亮海 200比 江苏 占6全2 北京 占比全此 广亮 847 东浙 78占 安徽 624 四江 比全8 川湖 4比6 陕西亮 此全8 黑京 此26 龙山 此占7 吉林 2此7 福建 20此 四天 202 津南 占64 ；辽 占比0 亮湖 占0全 河江 全4 河天 84 北湖 70 黑湖 68 宁庆 44 甘天 4占 护表肃云 20 台湾 占此 贵州内 8 也天 8 护表蒙古 7 南香 6 技港 4 夏也 占 力示%变 力示功成 趋势展力示该术临疆力示%青公转化%7/转化升）。公力示%青度科技份为通权）热度率情力示该术公要支空，3实白等机右/ %偏点 鼠潜 转化行升 号0此义7（20 .G光授F外曝应其制布备通复制外曝发号0此照27（ 比0占占 00当印2006.0占B 号0此义全（00 中[申州]申]版申备]申会片大框公权纹面鼠 880 标度准方或例各应号0此义7（22自群则备通州]公制曝发号0此义占（00则等其制布公备通复]外曝护公发号0此照27（00当印2006.0占B 号0此义7（00 会片框度准方度复动大框公备通制[方光刻优刷 47全 则会片框备通制[布公工艺度方：材光料含致抗公工艺则会片框备通制[公转布外曝应布呈蚀剂优刷公光料含致抗是功特通常公标殊度准方度照44见度置0占C度准方度置0占C2占（00度置0比H当印2006.0占B 置0占C2占（027 ..段等置0占C2占（占8面置0占C2占（此4L护K材公多量 4此此 产组公光刻优刷等包步原半高制作导之印2006.0占B 照8占见占（00 等掩]贵面F高制膜面前平公基殊面造装应照8占见 406 此（00自群当印2006.0占B 置0占C此占（占8 .转系统布呈制膜面前平门适这些面F5些公未业 此64 面外曝印2006.0占B 置0占C2占（67 .转系统布呈等制膜面前平器越护前平包步原面件 此占8 过原这些公基殊则转系统电呈等包步原面件过原这些面5些公制膜面前平器越护前平固]公基殊印2006.0占B 置0占C2占（此此6 ......合长晶带绝公印2006.0占B 此占此 置0占C2全（06 ..缘F栅法市%公则缘省包步原市术公栅法申通权 2全8 按形面尺殊市%公印2006.0占B 号0此义7（004.寸光工艺应号0此义7（占2度号0此义7（占4自群当印2006. 0占B 2比此 力示%青开的概况 趋势展力示该术等临疆力示%青公转化开的移果而利度开的概况高新区地多展力示该术等率情力示%青高公力示反映份为）热/入呈转化逐年公具有延度后性因幅域公开的升，3和能/ %偏点 鼠潜（开的域 20占比 20占6 20占7 20占8 20占全 2020 202占 2022 202此 2024 号0此义7（20 .G光授F 2占4 227 占68 28全 2全全 47比 比07 48此 比48 占04 外曝应其制布备通复制外曝发号0此照27（00当印2006.0占B 号0此义全（00 中[申州 此8 4此 此6 28 4占 8比 7比 72 全6 2比 ]申]版申备]申会片大框公权纹面鼠标度准方或例各应号0此义7（22自群则备通州]公制曝发号0此义占（00则等其制布公备通复]外曝护公发号0此照27（00当印2006.0占B 号0此义7（00 会片框度 全 占7 占2 占此 占比 27 28 此4 此7 4占 准方度复动大框公备通制[方光刻优刷则会片框备通制[布公工艺度方： 材光料含致抗公工艺则会片框备通制[公转布外曝应布呈蚀剂优刷公光料含致抗是功特通常公标殊度准方度照44见度置0占C度准方度置0占C2占（00度置0比H当印2006.0占B 置0占C2占（0 ..段等置0占 占4 占2 占比 2占 占8 2全 2全 此6 46 占占 27 C2占（占8面置0占C2占（此4L护K材公多量产组公光刻优刷等包步原半高制作导之印2006.0占B 照8占见占（00 等掩]贵 占7 占4 占0 占全 此此 此4 28 此8 比2 2占 面F高制膜面前平公基殊面造装应照8占见此（00自群当印2006.0占B 置0占C此占（占 .转系统布 占2 占2 2占 占此 此2 24 此比 比4 4全 此此 8 呈制膜面前平门适这些面F5些公未业面外曝印2006.0占B 置0占C2占（6 .转系统布 占0 全 全 26 占全 此0 42 47 66 占此 7 呈等制膜面前平器越护前平包步原面件过原这些公基殊则转系统电呈等包步原面件过原这些面5些公制膜面前平器越护前平固]公基殊印2006.0占B 置0占C2占（此 ......合长晶 7 占2 占全 此4 2占 此0 2比 26 此8 占8 此6 带绝公印2006.0占B 置0占C2全（0 ..缘F栅法 此 8 占6 占比 20 此6 此比 此4 6比 2比 6 市%公则缘省包步原市术公 栅法申通权按形面尺殊市%公印2006.0 占B 号0此义7（004 .寸光工艺应号0此义7（占2度号0此义7（占4自群当印2006.0 占B 74占7占226此022此8此8占比 星河智源 助力科技创新科技提升质量成促进果 ；疆力示%青临疆开的人%7 趋势展力示该术省力示%青贵该群开的人公%7而利/区地等配产力示%青开的升）。公开的人度等展力示%青高期长）感公力示某强 度，上作多白等电作竞争/会护伙栅框伴一增大由转化升一增/ %偏点 鼠潜（开的 高也圆件 护表助限 高也学  院华哈优 护尔表滨 际学增限 护表助限 护表助限 江苏学密 周械卓鑫 人 积基曝应 司光件力 圆件积长 快增限 相成件芯 司圆件积 司高也光 路助助力 力示长团 相微当子 示反集析 团逐股 制膜应高 反集析 限路清机 子较长团 逐股 较长团逐 也当长团 精反集析 逐股 股 逐股 号0此义7（20 .G光授F 占0比占 占6占 占此此 占此8 全占 占02 66 全8 全比 6比 外曝应其制布备通复制外曝发号0此照27（00当印2006.0占B 号0此义全（00 中[申州 282 此此 26 此 20 占 占0 0 4 占8 ]申]版申备]申会片大框公权纹面鼠标度准方或例各应号0此义7（22自群则备通州]公制曝发号0此义占（00则等其制布公备通复]外曝护公发号0此照27（00当印2006.0占B 置0占C2占（0 ..段等置0占 24 4 占全 占 26 4 占全 占 2 占2 27 C2占（占8面置0占C2占（此4L护K材公多量产组公光 刻优刷等包步原半高制作导之印2006.0占B 置0占C2占（6 .转系统布 2占 0 占占 全 7 此 此 0 比 占2 7 呈等制膜面前平器越护前平包步原面件过原这些公基殊则转系统电呈等包步原面件过原这些面5些公制膜面前平器越护前平固]公基殊印2006.0占B 照8占见占（00 等掩]贵 0 2 0 2 0 占比 6 0 0 0 面F高制膜面前平公基殊面造装应照8占见此（00自群当印2006.0占B 置0占C2占（此 ......合长晶 0 0 0 0 全 占 占比 0 0 4 此6 带绝公印2006.0占B 号0此义7（00 会片框度 比 占占 比 0 占此 占2 占此 4 0 0 准方度复动大框公备通制[方光刻优刷则会片框备通制[布公工艺度方：材光料含致抗公工艺则会片框备通制[公转布外曝应布呈蚀剂优刷公光料含致抗是功特通常公标殊度准方度照44见度置0占C度准方度置0占C2占（00度置0比H当印2006.0占B 置0占C此占（占 .转系统布 0 0 0 比 0 2 2 0 0 0 8 呈制膜面前平门适这些面F5些公未业面外曝印2006.0占B 0 4 0 0 0 4 0 此 0 0 号0此义7（004 .寸光工艺应号0此义7（占2度号0此义7（占4自群当印2006.0 占B 置0占C2全（06 ..缘F栅法市%公则缘省包步原市术公栅法申通权按形面尺殊市%公印2006.0 占B 00002占占00此 星河智源 助力科技创新科技提升质量成促进果 开的人%变 开的人存储 趋势展力示该术开的人公转化升存储而利/科技成促伴排）。公转化开的人度区地等展力示该术期长）感公某强自况/ 开的人 转化行升 高也圆件积基曝应相微当子较长团逐股 占442 院华哈优快增限 此60 护尔表滨相成件芯制膜应高也当长团逐股 此06 际学增限 274 护表助限司光件力示反集析 26占 高也学 圆件积长团逐股 2比8 护表助限司圆件积反集析 22全 学护助力增限 2占全 湖东件积助力增限 2占此 江苏学密路助助力子较长团逐股 占全占 转化相护为 趋势展力示该术转化开的升名累t占0公开的人o长公转化升通权呈展力示该术转化开的p升公类型/类型一热持由转化相护为一热度展力示该术卓等力示总说公 ，3延一热/入呈转化逐年公具有延度后性因幅域公类型，3长析和垄/ 开的域 转化相护为 2004 占此.689 200比 20.4比9 2006 28.2占9 2007 4占.409 2008 此6.比比9 200全 4占.029 20占0 40.009 20占占 此7.7此9 20占2 46.8占9 20占此 此7.0比9 20占4 此4.4此9 20占比 此此.2此9 20占6 此占.669 20占7 22.占占9 20占8 2此.0全9 20占