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欧莱新材机构调研纪要

2024-06-28发现报告机构上传
欧莱新材机构调研纪要

欧莱新材机构调研报告 调研日期:2024-06-28 2024-07-01 董事长、总经理文宏福,董事、副总经理、董事会秘书文雅,副总经理、财务总监毛春海,证券事务代表龚文家 2024-06-282024-06-28 特定对象调研,现场参观公司会议室 广发证券 证券公司 - 天风证券 证券公司 - 华创证券 证券公司 - 长城基金 基金管理公司 - 泰康基金 其它 - 九泰基金 基金管理公司 - 国泰君安 证券公司 - 旌安投资 投资公司 - 一、参观公司展厅并对公司基本情况进行介绍二、投资者互动交流 1、半导体业务方面,公司目前做的半导体靶材种类有哪些?如何预期未来半导体业务的占比? 回复:(1)半导体业务方面,目前公司已进入越亚半导体、SKHynix(海力士)等知名半导体厂商的集成电路封装材料供应体系。 (2)公司将通过实施本次募集资金投资项目,建设半导体集成电路用溅射靶材试制基地,对半导体集成电路用溅射靶材进行技术研发、产品试制,拓展溅射靶材在半导体集成电路领域的应用。随着半导体集成电路用溅射靶材研制成功,公司将与更多半导体集成电路行业的知名头 部客户建立合作关系,半导体业务的占比也将随之提升。2、面板业务方面,高迁移率材料目前所处的产业阶段,有已经在验证的客户吗? 回复:高迁移率氧化物半导体溅射靶材已处于惠科高世代显示面板产线的产品认证阶段;公司将进一步深化与平面显示领域知名头部客户的合作关系,强化市场竞争力。 3、面板业务方面的竞争格局,公司的市占率和材料优势? 回复:公司精耕于半导体显示用溅射靶材行业多年,系国内较早进入半导体显示用溅射靶材行业的企业之一,在半导体显示用溅射靶材领域 积累了丰富的技术经验。公司已实现G5、G6、G8.5、G8.6、G10.5、G11等世代线半导体显示用溅射靶材的量产供货,公司铜靶 、铝靶、钼及钼合金靶和ITO靶等主要产品已批量运用于京东方、华星光电、惠科、超视界、彩虹光电、深超光电和中电熊猫等下游知名半导体显示面板厂商TFT-LCD产品中,并进一步开拓了在MiniLED和MicroLED等新型半导体显示产品中的应用。根据中国电子材料行业协会的证明,按销售额统计,2021年公司平面显示用铜靶产品出货在国产厂商中排名位居前列。 4、作为韶关第一家上市科创板的高新企业,想了解一下公司成功募集资金后续的使用计划及节奏?大概什么时候能贡献利润?回复:(1)目前公司募投项目均在有序的投资建设中,合肥项目正筹备生产工作,预计年内可逐步投产;(2)乳源项目目前正进行厂房建设,因大型设备较多,后期设备安装调试周期也需一定时间;预计25年末部分工序可试产; (3)半导体项目正筹备投资;该项目为研发项目,并无直接的经济贡献; (4)公司募投项目是从企业长远发展角度的规划和投资,对公司中长期发展意义重大。 5、贵司目前账户中的闲置募集资金进行现金管理的期限大概是多长时间?进行现金管理的投向品种是否有限制?是否会进行公开化的市场询价? 回复:公司会将闲置募集资金进行现金管理,购买安全性高、流动性好的、保本的投资产品,期限均在1年以内,具体情况详见相关公告; 会选择建立合作的银行等金融机构进行报价,综合考虑产品风险、利率、期限、适用灵活程度等选择产品;公司会按要求定期披露募集资 金使用的相关信息。6、大宗商品的价格今年开始涨幅较大,对于贵司是否有影响?贵司在目前整体疲软的经济环境中如何达到营收利润的增长目标? 回复:年初以来,大宗商品价格普涨,公司紧密关注大宗商品价格情况,目前公司也正在极与下游客户沟通、议价,预计产品价格稳中有升。公司下半年也将进一步加大对半导体显示新产品、新工艺的投入;加快推进新产品导入;同时紧密关注异质结、复合铜箔等下游市场发展情况,加大开拓新的下游应用领域。 7、请问公司在行业内的核心壁垒是什么,有哪些技术上的优势? 回复:(1)公司所处的溅射靶材行业市场化程度高,市场竞争充分。凭借专利技术上的先发优势,美国、日本、欧洲等发达国家或地区的大 型溅射靶材厂商占据了全球溅射靶材市场较高的市场份额。近年来,国内溅射靶材厂商通过持续自主研究开发突破关键技术,在部分应用领域和部分类型溅射靶材形成差异化的竞争优势。 (2)公司是国内技术领先、规模较大的高性能溅射靶材生产企业之一,公司主要产品综合性能突出,纯度、致密度、晶粒度、绑定焊合率等多项核心技术指标已达到行业领先水平。 (3)截至招股书披露日,公司拥有134项授权专利,其中发明专利31项,实用新型专利103项,覆盖溅射靶材生产的各个关键环节。8、靶材加工损耗情况如何? 回复:不同材料、不同加工工艺损耗差异较大;且随着工艺往上游延伸,损耗也会相应增加。公司平面靶加工工艺成熟,同时平面材料加工损耗也小,损耗较低;旋转靶加工工艺长,部分靶材用到粉末冶金工艺,损耗会增加。 9、磁控溅射、真空蒸镀靶材利用率? 回复:不同品类、不同规格靶材的利用率也不一致,一般平面靶材利用率在30%-40%;旋转靶利用率在50%-80%。

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