【调研纪要】阿石创:对PVD镀膜设备端、工艺端、材料端的复合理解力与综合应用能力是核心竞争力(20221013)

掘金调研室 关注获取更多调研信息本文底部获取入群方式 阿石创副总经理、董事会秘书姚兴存证券事务代表谢文武证券事务专员郭诗怡） Q1:公司所属PVD镀膜行业的基本情况。 物理气相沉积（PVD）为真空镀膜技术的一个分支路线，相较于传统的电镀、化学镀、热加工等工艺，具有成膜均匀，硬度高，耐极端使用环境，颜色多样化，材料适应范围广，环保无污染，无铬离子等重金属污染。 PVD技术分为蒸镀法、溅镀法和离子镀法。三种方法各有优劣势：蒸镀速度快，溅镀法均匀性好，离子镀绕镀能力强。不同方法的选择主要取决于产品用途与应用场景。 从应用角度来看，PVD镀膜作为物体表面处理技术，应用空间非常广泛，不同应用有不同的要求，例如半导体、平板、光伏对镀膜材料织构要求较高，光学、防伪对膜层设计要求较高，电磁+传感对原材料的要求较高。 PVD材料的生产可以分为粉末冶金、金属熔铸两类工艺，粉末冶金（含喷涂）适用于难熔金属、化合物、合金靶材，金属熔铸（含挤压）适用于普通易熔炼金属，常见的靶材质性能指标有纯度、晶粒大小与取向（织构）、致密度等。 Q2:公司的核心竞争力是什么 阿石创2002年踏入，至今已有20年发展历史，从光学到节能玻璃，再到LED与显示面板、光伏与半导体等，在设备端、工艺端、客户端积累了丰富的PVD镀膜经验，对PVD镀膜设备端、工艺端、材料端的复合理解力与综合应用能力是当前阿石创的核心竞争力。 客户端：公司已累计服务全球客户超四百家，涵盖了光学光通讯、平板显示、节能玻璃、光伏等诸多领域；设备端：与日本爱发科、美国AKT、新科隆等镀膜设备厂商保持良好的沟通； 工艺端：经过过往的二十年，积累了丰富的膜层设计、膜系分析经验，奠定了坚实的技术基础。 Q3:ITO靶材的生产与应用 ITO（氧化铟锡）靶材是一种陶瓷靶材（采用粉末冶金工艺），其生产工艺是将氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成型，再高温气氛烧结形成。ITO薄膜具有优良的光电性能,对可见光的透 过率达95%以上,导电性和加工性能极好,硬度高且耐磨耐蚀。公司产品中ITO系列产品可应用在平面显示、光伏等领域上。 Q4:请问公司能否生产适用于光伏HJT领域的AZO靶材？ 公司已自主掌握AZO靶材的研发与生产技术；并凭借着PVD镀膜材料行业多年的技术积累和客户口碑，以及能够为客户同时提供ITO靶材和AZO靶材的全类型服务。 Q5：PET铜箔的研发与应用 目前PET铜箔工业化生产的难点在于控制薄膜穿孔与鼓包，即其中的PVD生产环节。PVD生产环节的关键点在于材料、设备和工艺。阿石创凭借着二十年以来对PVD镀膜材料的技术积累，结合设备生产商与传统光学、电子等镀膜工艺应用领域的经验，积极研发生产复合铜箔，助力锂电铜箔行业的发展。 Q6：请问公司锂电行业PET铜箔的研究进度如何？是否进入送样环节？ 公司复合铜箔项目现已完成与设备产商的技术交流环节，部分产线设备已下定。 关注公众号，回复“入群”，可添加管理员微信，赐名片后，加您入调研室交流群。