该研究开发了一种局部纳米粒子插入方案,将电子注入与激光尾场加速中的激光演化分离。通过在铜刀片目标上使用激光烧蚀过程产生的纳米粒子,产生电子束具有高束电荷和发散度,显示注入概率超过90%。这种纳米粒子插入方法可以避免电子注入过程对激光演化的干扰影响,为来自低密度等离子体的多 GeV 电子源提供合适的电子注入器。