用于自旋电子应用的由 MoS2 纳米结构组成的磁性 NiFe 薄膜

这篇报告介绍了一种新的制造方法，通过电沉积将MoS2薄片与Py磁性薄膜共沉积，以制造具有自旋电子应用的纳米结构层。这种结构中，MoS2的存在增强了铁磁共振线宽和阻尼参数，显示出更高的矫顽力和磁光克尔效应。这种制造方法有可能通过控制生长条件来制造所研究材料的梯度或多层。