公司2021年扣非净利润大幅增长，ICP刻蚀机和薄膜沉积设备进展迅速

2022年3月31日，公司发布2021年年度报告：公司2021年营业收入为31.08亿元，同比增长36.72%；实现归母净利润10.11亿元，同比增长105.49%；实现扣非归母净利润3.24亿元，同比增长1291.10%；毛利率为43.36%，同比增长5.69pcts；净利率为32.54%，同比增长10.88pcts。 公司2021Q4营业收入为10.35亿元，单季环比增长41.03%，单季同比增长29.91%；实现归母净利润4.7亿元，单季环比增长223.34%，单季同比增长 118.14%；实现扣非归母净利润1.59亿元，单季环比增长54.36%，单季同比增长131.82%；毛利率为44.71%，单季环比增长1.40pcts，单季同比增长1.69pcts； 净利率为45.36%，单季环比增长25.59pcts，单季同比增长18.34pcts。 受益于半导体设备市场发展以及产品的竞争优势，公司2021年扣非净利润和新增订单大幅增长。 公司2021年营业收入为31.08亿元，同比增长36.72%，增长迅速；归母净利润10.11亿元，同比增长105.49%；扣非净利润为3.24亿元，同比增长1291.1%，实现大幅增长。 其中非经常性损益为6.87亿元，来源于（1）因中芯国际股价变动以及公司减持部分中芯国际股票，公司2021年收益约0.39亿元，较2020年收益的2.62亿元减少约2.23亿；公司投资的其他非上市公司股权（以公允价值计量且其变动计入当期损益）于2021年产生公允价值变动收益约3.70亿元，较2020年增加约3.70亿元。 因上述两项因素合计影响，公司2021年较2020年增加税前利润约1.47亿元；（2）公司2021年计入非经常性损益的政府补助较2020年增加约0.95亿元。 分业务看，2021年刻蚀设备收入同比增长近56%：受益于半导体设备市场发展及产品竞争优势，公司2021年刻蚀设备收入为20.04亿元，较2020年增长约55.44%，毛利率达到44.32%；由于下游市场原因以及本年新签署的Mini-LEDMOCVD设备规模订单尚未确认收入，2021年MOCVD设备收入为5.03亿元，较2020年增长约1.53%，但MOCVD设备的毛利率达到33.77%，较2020年的18.65%有大幅度提升。 公司订单情况良好，2021年新增订单41.3亿元，同比增长90.5%，合同负债为13.72亿元，同比增长53.7%：公司2021年新签订单金额为41.3亿元，较2020年增加约19.6亿元，同比增加约90.5%，增长速度较快；公司2021年合同负债为13.72亿元，同比增长53.7%；公司2021年存货为17.62亿元，同比增长6.3%。 刻蚀设备：CCP刻蚀机市占率不断提升，ICP刻蚀机进入放量期，ALE设备正在筹划开发中。 CCP刻蚀机：公司CCP刻蚀设备产品保持竞争优势，PrimoAD-RIE®、PrimoSSC ADRIE™、PrimoHD-RIE™等产品批量应用于国内外一线客户的集成电路加工制造生产线，并持续提升市场占有率，在部分客户市场占有率已进入前三位。公司2021年共生产付运CCP刻蚀设备298腔，产量同比增长40%。此外，在先进逻辑电路方面，公司成功取得5纳米及以下逻辑电路产线的重复订单。在存储电路方面，公司的刻蚀设备在64层及128层3DNAND的生产线得到广泛应用。 随着3DNAND芯片制造厂产能的迅速爬升，该等产品的重复订单稳步增长。同时，公司积极布局动态存储器的应用，并开始工艺开发及验证。公司积极与主流客户合作，定义下一代CCP刻蚀机的主要功能及技术指标，正开发更先进的CCP刻蚀机产品。 ICP刻蚀机：公司ICP刻蚀设备已经逐步趋于成熟。Primonanova®ICP刻蚀产品已经在超过15家客户的生产线上进行100多个ICP刻蚀工艺的验证，部分工艺的刻蚀性能和量产指标已经满足客户的要求并投入量产，且持续扩展到更多刻蚀应用的验证。截止到2021年12月底，PrimoNanova®已经顺利交付超过180台反应腔，且在客户端完成验证的应用数量也在持续增加。公司2021年共生产付运ICP刻蚀设备134腔，产量同比增长235%。 此外，公司ALE（原子层刻蚀）先进关键设备正在筹划开发中。 MOCVD设备：Mini-LED用MOCVD设备已收到批量订单，第三代半导体及Micro-LED用MOCVD设备稳步推进。公司蓝光照明PrismoA7®以及深紫外LED外延片PrismoHiT3®产品持续服务客户。公司在2021年6月正式发布了用于高性能Mini-LED量产的MOCVD设备PrismoUniMax®，半年内即已收到来自国内多家领先客户的批量订单合计超过100腔，并且不断收到更多的订单。公司还积极布局用于功率器件应用的第三代半导体设备，启动了应用于制造功率器件、Micro-LED等生产的MOCVD设备的开发，其中开发GaN功率器件量产应用的MOCVD设备目前已交付国内外领先客户进行生产验证，此外，公司启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发，将进一步丰富公司的产品线，进一步稳固、提升公司在MOCVD产品上的领先市场地位。 薄膜沉积设备：钨填充CVD获得阶段性成果，CVD、ALD和EPI设备开发进展良好。公司的钨填充CVD设备获得了阶段性进展，已能够满足客户工艺验证的需求，产品正与关键客户对接验证。基于金属钨CVD设备，公司正进一步开发CVD和ALD设备，实现更高深宽比和更小的关键尺寸结构的填充，以满足高端逻辑器件和先进存储芯片的需求。目前公司EPI设备已进入样机的设计，制造和调试阶段，以满足客户先进制程中锗硅外延生长工艺的电性和可靠性需求。 其他设备业务布局：VOC净化设备积极推进中，增资睿励仪器布局前道检测业务，扩展在显示、MEMS、功率器件、太阳能等泛半导体领域的关键设备。在聚焦主业的同时，公司在外延发展方面继续积极探索。子公司中微惠创利用分子筛的吸附原理的化学反应器，开发制造了工业用大型VOC净化设备，与德国DAS环境专家有限公司签订战略合作协议，双方将在半导体行业尾气处理设备领域展开紧密的合作。公司于2021Q1完成了对睿励仪器1亿元的增资事项，累计持有睿励仪器20.45%的股份，并委派尹志尧出任睿励仪器的董事长，2022年3月拟增资1.08亿元，交易完成后持股比例将提升至29.36%，布局集成电路工艺检测设备领域，有利于拓展公司业务范围。公司计划扩展在泛半导体领域设备的应用，布局显示、MEMS、功率器件、太阳能领域的关键设备；公司拟探索其他新兴领域的机会，利用独特的设备及工艺技术，考虑从设备制造向器件大规模生产的机会，以及探索更多集成电路及泛半导体设备生产线相关环保设备及医疗健康智能设备等领域的市场机会。 盈利预测、估值与评级：中微公司是国内刻蚀设备和MOCVD设备的领军企业，我们持续看好公司雄厚的内生技术实力以及外延扩展能力，考虑到ICP刻蚀机和薄膜沉积设备进展迅速，上调公司2022-2023年的归母净利润为10.73亿元（上调40.63%）、12.72亿元（上调20.11%），预计2024年的归母净利润为15.40亿元，当前市值对应的PE值分别为67x、56x、46x，维持“买入”评级。 风险提示：晶圆厂扩张不及预期，客户导入不及预期，技术研发不及预期。 图表1：公司盈利预测与估值简表 图表2：公司2021年研发投入情况 图表3：公司2021年主要控股参股公司经营情况 1.公司部分季度财务指标 图表4：中微公司近两年单季营收、归母净利润及成本情况 图表5：中微公司近两年单季毛利率及净利率情况 图表6：中微公司近两年合同负债情况 图表7：中微公司近两年存货情况 图表8：中微公司近两年存货周转率情况 图表9：中微公司近两年应付账款周转率情况