三星成功流片3nm GAA技术,延续摩尔定律,全球半导体行业继续高景气。三星的3nm GAA工艺相较于5nm工艺,逻辑面积效率提高了35%以上,功耗降低了50%,性能提高了约30%。随着三星3nm GAA制程的成功流片,距离三星3nm GAA工艺的量产又近了一步。台积电预计在2023年下半年可望进入GAA风险性试产,2024年正式量产。全球芯片短缺的大格局下,上游原材料端的紧缩辐射到了下游应用端,芯片厂商预计重点扩大产能,同时将上调产品价格。